薄膜厚度及其測量方法

薄膜厚度是薄膜最重要的參數(shù)之一，它影響著薄膜的各種性質(zhì)及其應(yīng)用。

薄膜淀積速率是制膜工藝中的一個重要參數(shù)，它直接影響薄膜的結(jié)構(gòu)的特性。

重點(diǎn)：薄膜厚度的測量和監(jiān)控。

厚度：是指兩個完全平整的平行平面之間的距離。

理想薄膜厚度：基片表面到薄膜表面之間的距離。

由于薄膜具有顯微結(jié)構(gòu)，要嚴(yán)格定義和精確測量薄膜厚度，實(shí)際上比較困難的。

薄膜厚度的定義是與測量方法和目的相關(guān)的。

膜厚的測試方法：

1.形狀膜厚：

測試手段及方法：機(jī)械方法（觸針法，測微計法）、光學(xué)方法（多次反射干涉法，雙光纖干涉法）、其他方法（電子顯微鏡法）

2. 質(zhì)量膜厚：

測試手段及方法：質(zhì)量測定法（化學(xué)天平發(fā)，微量天平法，扭力天平法，石英晶體振蕩法）、原子數(shù)測量法（比色法、X射線熒光法、離子探針法、放射性分析法）

3. 物性膜厚：

測試手段及方法：電學(xué)方法（電阻法、電容法、渦流法、電壓法）、光學(xué)方法（干涉色法、橢圓偏振法、光吸收法）